“通快霍廷格电子将在3月26日-28日表态SEMICON China 2025，展示其针对于半导体范畴的等离子体电源产物、前沿解决方案及相干技能。（通快霍廷格电子展台：T2馆T2203） • 通快霍廷格电子等离子体射频和直流电源为晶圆制造的沉积、刻蚀及离子注入等要害工艺提供精度、质量及效率的有力保障。• 安身百年电源研发经验，通快霍廷格电子将连续经由过程立异等离子体电源解决方案，助力半导体财产实现工艺优化、产物不变及降本增效。通快霍廷格电子将在3月26日-28日表态SEMICON China 2025，展示其针对于半导体范畴的等离子体电源产物、前沿解决方案及相干技能。（通快霍廷格电子展台：T2馆T2203）通快霍廷格电子是世界领先的等离子体电源制造商，旗下产物有多款专用在沉积及干法刻蚀工艺的优质等离子体电源，于电源范畴拥有一百多年的经验堆集。于半导体系体例造中，通快霍廷格电子的等离子射频及直流电源于等离子体加强化学气相沉积（PECVD）、物理气相沉积（PVD）、刻蚀以和离子注入等要害工艺中阐扬主要作用，可以或许为晶圆制造的精度、质量及出产效率提供有力保障。“如今，高机能、低功耗、高集成度已经成为半导体财产成长的焦点趋向。咱们很是期待于SEMICON China与列位行业伙伴相聚，分享通快霍廷格电子于沉积、刻蚀及离子注入等要害工艺环节的高效解决方案。”通快霍廷格电子亚洲董事总司理Dariusz Czaja（戴睿士）暗示，“依附百年的电源研发经验，通快霍廷格电子已经成为半导体系体例造范畴值患上相信的等离子体电源专家。咱们见证了中国半导体财产最近几年来的飞速成长，尤其是于智能手机、汽车及人工智能等要害范畴，结果使人瞩目。”于 SEMICON China 2025的展台上，通快霍廷格电子将重点展示其针对于半导体范畴的等离子体电源TruPlasma RF及TruPlasma Match产物，以和TGV 面板技能。展台上重要展示产物包括：• 新一代等离子体射频电源TruPlasma RF G3 :高速脉冲功效显著晋升等离子体孕育发生及节制的能力；多级脉冲技能提供了矫捷多样的等离子体引发模式，不仅能优化等离子体特征，还有能满意多样化工艺需求；内置高速采样示波器可及时监测射频电源的电压、电流及频率等参数变化，为沉积及刻蚀工艺的监控、阐发及优化提供强盛撑持。
TruPlasma RF 1000(G3)• TruPlasma Match匹配器系列：智能匹配算法为沉积、刻蚀等工艺提供全方位监控，确保射频电源不变连结50 Ω阻抗适配；数字化治理平台及时丈量射频功率和相干参数，实现快速追踪频率变化并有用治理电弧，保障工艺不变性及一致性。
TruPlasma Match 1000 (G2/13)• TGV（玻璃通孔）面板技能：将超短脉冲激光技能立异性地运用在玻璃中介层制造，同时使用等离子体电源告竣离子注入，实现了微芯片封装范畴的高精度加工与成本优化的两重冲破。关在通快霍廷格电子通快霍廷格电子有限公司建立在1922年，总部设在德国弗莱堡，是世界领先的等离子体电源制造商，产物重要用在：半导体，太阳能及显示器范畴，以和工业镀膜，玻璃镀膜等行业的等离子体运用，在1990年正式插手通快集团。通快霍廷格电子致力在开发、制造用在各类沉积及干法刻蚀工艺的等离子电源，于电源范畴拥有一百多年的经验堆集，于欧洲、美洲及亚洲别离设有发卖及办事子公司及分支机构。2006年，通快霍廷格电子中国建立，至今已经经深耕中国市场19年。如今，通快霍廷格于中国设有亚太区运用以和研发中央、办事维修中央、出产中央，为客户提供所有出产历程中的优质办事。2023年，通快霍廷格中国新工场于太仓建成开业，这是通快霍廷格继德国、波兰以后结构的全世界第三家出产制造基地。
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